电半导体制程上所使用的湿化学品，其质量是影响制程良率*直接也是*深入的关键因素。为了有效掌控制程良率，降低制程污染的风险，对于制程上所使用的各类化学品，如洗剂、蚀刻液、光阻剂、去光阻剂、显影剂等，对这些化学品进行质量管理，以及对其相关供应系统的质量进行确认是十分有必要的。随着人们环保意识的不断增强，对化学品减量使用以及回收处理再利用也慢慢成为趋势，因此化学品回收处理的效果及处理后化学品的质量确认也不容忽略。在半导体制造过程中，使用多种湿化学品来进行化学蚀刻、清洁和表面处理等步骤。这些湿化学品在半导体工业中扮演着非常关键的角色，以下是一些常见的半导体湿化学品：
半导体湿化学品检测是指对使用于半导体制造过程中的湿化学品进行分析和测量，以确保其质量和参数符合制程要求。这些检测通常包括以下方面：
化学组成分析：对湿化学品的化学组成进行分析，确定其主要成分和含量。通过各种分析技术，如光谱分析、质谱分析、色谱分析等来实现。
浓度测量：测量湿化学品中特定成分的浓度，以确保其与制程要求相符。能够通过化学分析方法，如滴定法、光谱分析、电化学分析等来实现。
PH 值测量：湿化学品的 PH 值是其酸碱性的指标，对于许多半导体制程步骤来说是非常重要的。PH 值的测量通过使用 PH 测量仪或 pH 电极进行。
杂质检测：检测湿化学品中的杂质和不纯物，这些不纯物可能对半导体制程和组件性能产生不良影响。常用的杂质检测方法包括光谱分析、质谱分析、离子色谱分析等。
湿化学品检测通常在实验室或专门的检测设施中进行，为了能够**分析化学品的含量与纯度，以及确认ppt等级的微量杂质，必须要使用高端的包括光谱分析、质谱分析、离子色谱分析等分析设备；*纯净的超纯水作为实验分析用水；*洁净的分析环境 (ISO Class 4洁净室)和器材；*纯的分析试剂等。